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    包郵 關(guān)注:841

    精密研磨拋光設備GNAD系列

    產(chǎn)品品牌

    MCF

    規格型號:

    GNAD系列

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    英國

    數       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:MCF

    型號:GNAD系列

    所屬系列:半導體加工設備-晶圓減薄拋光設備-CMP磨拋機

    具體設備詳情請咨詢(xún)專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售:  400-6988-696   
          
           GNAD系列高精度研磨拋光設備是MCF公司研制的覆蓋半導體材料,光電材料等應用領(lǐng)域的精密磨拋設備。主要適用的材料包括:硅,砷化鎵,鈮酸鋰,光纖,碳化硅,藍寶石,碲鋅鎘等多種材料。

    設備結構及功能

    GNAD系列精密研磨拋光機包括主機,遠程操控系統,夾具,真空系統,填料系統,研磨拋光盤(pán)等。主機及所有的零備件均采用高防腐蝕材料,整機防腐,適用于多種半導體材料的化學(xué)機械研磨拋光。

    設備的功能參數,可由獨立的遠程操控系統控制。遠程操控系統可根據用戶(hù)工藝等具體要求選擇無(wú)線(xiàn)或有線(xiàn)方式控制主機。
          
           夾具配備晶片研磨厚度在線(xiàn)監測裝置,數字顯示,監測精度≤1um,夾具自身對晶片的壓力連續可調。真空系統通過(guò)抽真空的方式將樣品直接吸附在樣品固定裝置底面。根據不同工藝要求,真空系統可以直接吸附樣品或者直接吸附貼有樣品的玻璃基板。

    自動(dòng)填料系統可根據不同的工藝要求,調整滴料速度,并在研磨料用完同時(shí)自動(dòng)停機,以防止沒(méi)有研磨料時(shí)對樣品產(chǎn)生的損傷。

    設備可支持雙多通道進(jìn)料系統同時(shí)工作,實(shí)現化學(xué)研磨拋光等各種復雜的工藝。

    設備的擺臂配置樣品水平轉動(dòng)驅動(dòng)系統,大大提升了磨拋效率的同時(shí),也更好的控制樣品平整度。

    GNAD系列磨拋機具有實(shí)時(shí)在線(xiàn)監控磨拋盤(pán)溫度變化和冷卻選配功能。盤(pán)溫接近預設溫度警戒值,設備會(huì )自動(dòng)啟動(dòng)冷卻功能,保持磨拋盤(pán)在工藝要求的溫度范圍內運轉工作。

    設備參數
           電源:                 240V、10A  / 110V、10A 
           晶圓尺寸:         GNAD40  4”/100mm x 3
           工作盤(pán)直徑:     GNAD40  300mm-420mm
           盤(pán)轉速:             0-120rpm 
           擺臂擺動(dòng)頻率: 0-30spm
           工作時(shí)間:         0-10小時(shí)

    MCF公司可根據用戶(hù)需求,提供完整的工藝方案,同時(shí)定制匹配方案的設備機型。詳情請聯(lián)系銷(xiāo)售代表。

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    carmen  2017-06-29

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