1. <code id="ixrr9"></code>

    <pre id="ixrr9"></pre>
    <code id="ixrr9"></code>
    <nav id="ixrr9"></nav>
    <nav id="ixrr9"></nav>

    網站首頁

    |EN

    當前位置: 首頁 » 設備館 » 半導體加工設備 » 晶圓減薄拋光設備 » CMP磨拋機 »晶圓研磨拋光機
    包郵 關注:8697

    晶圓研磨拋光機

    產品品牌

    MCF

    規格型號:

    GNAD系列

    庫       存:

    100

    產       地:

    英國

    數       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌:MCF

    型號:GNAD系列

    所屬系列:半導體加工設備-晶圓減薄拋光設備-CMP磨拋機

    設備1MCF-3429

    具體設備詳情請咨詢專業銷售:  400-6988-696   
         
           GNAD系列高精度研磨拋光設備是MCF公司研制的覆蓋半導體材料,光電材料等應用領域的精密磨拋設備。主要適用的材料包括:硅,砷化鎵,鈮酸鋰,光纖,碳化硅,藍寶石,碲鋅鎘等多種材料。

    設備結構及功能

    GNAD系列精密研磨拋光機包括主機,遠程操控系統,夾具,真空系統,填料系統,研磨拋光盤等。主機及所有的零備件均采用高防腐蝕材料,整機防腐,適用于多種半導體材料的化學機械研磨拋光。

    設備的功能參數,可由獨立的遠程操控系統控制。遠程操控系統可根據用戶工藝等具體要求選擇無線或有線方式控制主機。
          
           夾具配備晶片研磨厚度在線監測裝置,數字顯示,監測精度≤1um,夾具自身對晶片的壓力連續可調。真空系統通過抽真空的方式將樣品直接吸附在樣品固定裝置底面。根據不同工藝要求,真空系統可以直接吸附樣品或者直接吸附貼有樣品的玻璃基板。

    自動填料系統可根據不同的工藝要求,調整滴料速度,并在研磨料用完同時自動停機,以防止沒有研磨料時對樣品產生的損傷。

    設備可支持雙多通道進料系統同時工作,實現化學研磨拋光等各種復雜的工藝。

    設備的擺臂配置樣品水平轉動驅動系統,大大提升了磨拋效率的同時,也更好的控制樣品平整度。

    GNAD系列磨拋機具有實時在線監控磨拋盤溫度變化和冷卻選配功能。盤溫接近預設溫度警戒值,設備會自動啟動冷卻功能,保持磨拋盤在工藝要求的溫度范圍內運轉工作。

    設備參數
           電源:                 240V、10A  / 110V、10A 
           晶圓尺寸:         GNAD60   6”/150mm x 3
           工作盤直徑:     GNAD60  300mm-420mm
           盤轉速:             0-120rpm 
           擺臂擺動頻率: 0-30spm
           工作時間:         0-10小時

           MCF公司可根據用戶需求,提供完整的工藝方案,同時定制匹配方案的設備機型。詳情請聯系銷售代表。

    咨詢

    購買之前,如有問題,請向我們咨詢

    提問:
     

    請問該設備研磨精度最大能達到什么程度

    yirongwei1994918  2017-06-30

    應用于半導體行業的相關同類產品:

    服務熱線

    4001027270

    功能和特性

    價格和優惠

    微信公眾號

    国产99视频精品免视看7,成 人 十 八 黄 色 网 站,无码专区人妻系列日韩,91婷婷韩国欧美一区二区
    1. <code id="ixrr9"></code>

      <pre id="ixrr9"></pre>
      <code id="ixrr9"></code>
      <nav id="ixrr9"></nav>
      <nav id="ixrr9"></nav>