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    包郵 關注:1626

    mask aligner光刻機

    庫       存:

    100

    產       地:

    全國

    數       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌:

    型號:

    所屬系列:半導體二手設備-二手芯片制造前段設備

    應用領域
       電子封裝(晶片凸點和晶片級CSP)
       光電設備(LEDs,激光二極管,波導陣列)
       探測器  (CCD,近/遠 紅外,實時X射線)     
       MEMS 和MOEMS 設備顯示器  (LCDs,聚合體LCD,OLED)

    適用感光層
       適用與各種類型的光刻膠及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8
       適用與G, H, I線及深紫外曝光

    適用基材半導體材料

       Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT,LiNbO3, 石英, 玻璃,

       Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, metal

    特點

       使用365/400/436納米波長的近紫外波長,最小線寬可以做到0.6微米以下 

       CCD傳送圖像,操作員可以通過顯示器輕鬆完成掩范本和基板的對準,減少疲勞,降低誤操作

       同檔次設備中性價比極高,穩定性媲美歐洲產品,完善的技術支援和業內口碑良好的售后服務

       高效率的產能,45片-60片/小時

       機型設計簡潔,操作方便,功能升級無須更換機型,維護所需時間和成本極少 

       有SEMIAUTO/AUTO ALIGMENT,等自動化機型和功能可供選擇

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